SPV-50等離子表面處理儀優(yōu)點(diǎn)：

1、環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過(guò)程是氣-固相干式反應，不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑，對環(huán)境無(wú)污染。

2、廣適性：不分處理對象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理。

3、溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(cháng)保存時(shí)間和較高表面張力。

4、功能強：僅涉及高分子材料淺表面(10-1000A)，可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能。

5、低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液，因此清洗成本會(huì )大大低于濕法清洗。

6、全過(guò)程可控工藝：所有參數可由電腦設置和數據記錄，進(jìn)行工藝質(zhì)量控制。

7、處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小，簡(jiǎn)單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

真空等離子清洗的優(yōu)勢：

等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。與傳統的一些清洗方法相比，如超聲波清洗、UV清洗等，具有以下優(yōu)點(diǎn)：

(A)處理溫度低：

處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對樣品表面不造成熱影響。

(B)處理全程無(wú)污染：

等離子清洗機本身是很環(huán)保的設備，不產(chǎn)生任何污染，處理過(guò)程也不產(chǎn)生任何污染。

(C)處理效果穩定：

等離子清洗的處理效果非常均勻穩定，常規樣品處理后較長(cháng)時(shí)間內保持效果良好。

(D)可以處理各種形狀的樣品：

對于復雜形狀的樣品，等離子清洗都能找到合適的解決方案。

真空等離子清洗更可實(shí)現對固體樣品內部位置進(jìn)行清洗。

(2.2)尺寸參數